佳能新發售KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”Grade10升級包 每小時晶圓產能可達300片 實現半導體光刻行業更高水平生產
日期：2022-06-14
佳能將于2022年8月初發售KrF*1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產能升級配件包（以下簡稱“Grade10”升級包）。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”自發售至今，已經在生產存儲器和邏輯電路的大型半導體器件制造廠商中收獲良好口碑，此次發布的“Grade10”升級包將助力該設備在300mm晶圓規格基礎上，以每小時高達300片*2晶圓的加工能力實現半導體光刻行業內的更高水平*3。
佳能半導體光刻機“FPA-6300ES6a”
投入工廠運行的“FPA-6300ES6a”設備
隨著市場對半導體器件需求的持續增長，半導體器件制造廠商也在不斷尋求具備更高生產能力的半導體光刻設備。自2012年4月推出KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”以來，佳能在提升設備生產能力的過程中不斷實現產品的升級與迭代，并在市場中贏得了客戶群體的廣泛認可和高度信賴。
新發布的“Grade10”升級包能夠在300mm晶圓規格基礎上，實現每小時300片晶圓的高效率生產。此外，這一升級包將于2023年在KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的200mm兼容設備上得到應用。
實現行業更高水準的生產效率
“Grade10”升級包通過加快工作臺和傳送系統的驅動，縮短了曝光時間和傳輸時間，以每小時300片晶圓的產能，實現半導體光刻行業的更高水準生產。同時，這是佳能在半導體光刻設備上首次搭載基于人工神經網絡*4的工作臺控制系統，減少高速驅動產生的振動，以保持高精度光刻水準。此外，通過選取套刻精度（Overlay）配件，在提升產能的同時，更可實現高達4nm*5的套刻精度。
支持現有設備的升級
對于已經在半導體器件制造廠商中投入使用的KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”*6，無需更換設備即可通過使用“Grade10”升級包進一步提高生產效率。
未來，佳能將繼續帶來多樣化的解決方案，并提供能夠有效提升生產效率的配件升級，更好地滿足半導體光刻設備市場的需求。
- 使用波長248nm，由氪（Kr）氣體和氟（F）氣體產生的激光的半導體光刻機。1納米（納米）是10億分之一米。
- 在300mm晶圓規格基礎上和96次曝光條件下，每小時的晶圓曝光處理數量。
- 在支持300mm晶圓規格的KrF半導體曝光設備中；統計時間截至2022年6月12日（佳能調查顯示）。
- 模仿腦神經結構的機器學習算法之一。
- 單機自身的套刻精度。
- 需要應用于KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的Plus機型。
**為方便讀者理解，本文中佳能可指代：佳能光學設備（上海）有限公司，佳能（中國）有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等。
參考信息：
＜什么是步進式掃描光刻機？＞
“重復步進并多次掃描曝光”的裝置稱為“步進掃描光刻機”，該裝置通過控制掩模臺與工作臺的同步運動的方式實現曝光動作。由于步進式掃描光刻機的掃描儀可以在掃描操作中覆蓋曝光視角，因此其主要優點是易于通過調整鏡頭的有效區域來擴大數值孔徑（NA, Numerical aperture），并在鏡頭像差較小的部分進行曝光，從而更好地抑制曝光失真，帶來高精度曝光。
＜佳能半導體光刻設備＞
佳能目前擁有i線光刻機和KrF光刻機產品線，同時也在不斷豐富其多元化半導體光刻設備陣容，以更好地滿足市場對于更大面積像場、更小尺寸掩膜版，和更豐富的物聯網功能的需求。
主要產品規格介紹 https://global.canon/en/product/indtech/semicon/
＜了解半導體光刻設備工作原理的網站＞
■ 佳能技術網站分享：半導體光刻設備是如何工作的？
在下方網站中我們將以通俗易懂的方式呈現半導體光刻設備技術及其工作原理：
https://global.canon/en/technology/semicon2021s.html
■ 佳能半導體光刻設備網站
在下方網站中，我們通過插圖和視頻等富有趣味的方式，對半導體光刻設備的工作原理與性能進行了介紹。此外，我們還為青少年開設了專門的頁面，以輕松、愉悅的方式介紹光刻技術：
https://global.canon/en/product/indtech/semicon/50th/
＜佳能光學設備（上海）有限公司介紹＞
佳能光學設備（上海）有限公司是佳能在中國大陸地區成立的提供半導體及液晶面板生產設備營業輔助業務和技術支持業務的公司。所經營的產品除了佳能股份有限公司制造的半導體及液晶面板生產用曝光裝置以外，還包括佳能機械公司，佳能安內華公司以及佳能特機公司承接的全部半導體及液晶面板生產設備。
佳能在中國大陸地區從事半導體及液晶面板生產設備業務的歷史可以追溯到20世紀80年代，當時開始向中國出口半導體曝光裝置（接近式曝光裝置、鏡面投影式曝光裝置）。20世紀90年代又為上海地區的半導體客戶企業提供了i線Stepper、等離子除膠設備、常壓成膜設備等各類佳能集團制造的半導體設備。進入21世紀，隨著中國半導體前道工藝的迅速發展，佳能進一步將KrF Scanner等高端的半導體光刻裝置引進到國內。當時，佳能與三井物產集團建立了合作伙伴關系，進一步擴大了在中國的產品銷售范圍，在中國的液晶面板生產設備市場也得到了順利的拓展，其中佳能的液晶面板曝光裝置從中國液晶產業初期開始始終保持著極高的市場占有率。
如今，在半導體、液晶面板以及有機EL板等高科技制造業領域，佳能正在加快向亞洲生產基地、尤其是向中國市場的投資轉移。今后佳能光學設備（上海）有限公司將作為佳能集團與顧客之間的橋梁，進一步加強對客戶企業的支持力度，力爭以此實現提高顧客滿意度、擴大事業規模的目標。
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